TSMC e Samsung adotam novas máquinas High NA EUV da ASML
TSMC e Samsung vão utilizar os equipamentos High NA EUV da ASML para responder à crescente procura por semicondutores avançados impulsionada pela inteligência artificial.
A TSMC e a Samsung juntaram-se à Intel no compromisso de utilização das máquinas de litografia de ultravioleta extremo com elevada abertura numérica (High NA EUV) da ASML. Os equipamentos, avaliados em cerca de 400 milhões de dólares por unidade, destinam-se ao fabrico de chips avançados e memória DRAM, impulsionados pela necessidade de arquiteturas de transístores mais complexas para inteligência artificial.
A Samsung prevê aplicar a tecnologia na produção de DRAM a partir de 2028, projetando a adoção plena em 2030 para expandir o seu plano de escalamento e aumentar a eficiência do processo. Por seu lado, a TSMC antecipa um crescimento no uso destas ferramentas High NA para responder à procura por componentes de computação avançada.
Paralelamente, os dois maiores fabricantes mundiais de chips aderiram a uma iniciativa liderada pela ASML para evoluir a tecnologia de fotomáscaras do formato atual de 6 polegadas para 12 polegadas. Esta transição no formato dos modelos de impressão visa aumentar a produtividade e reduzir os custos de fabrico de semicondutores.
O reforço da adoção comercial confere maior visibilidade operacional à ASML, que tem como meta expandir a capacidade total de produção de EUV em cerca de 30% até 2027. Analistas do Barclays referem que a procura sólida coloca a empresa neerlandesa perante a decisão estratégica de ponderar um novo aumento da sua capacidade fabril.
Impacto nos mercados
O compromisso das maiores fabricantes mundiais consolida a visibilidade de longo prazo para a ASML (ASML), cujas ações em Amesterdão acumulam uma subida de 120% no último ano. A redução da incerteza sobre a adoção das máquinas de 400 milhões de dólares valida a liderança da empresa no fornecimento da cadeia global de semicondutores, aliviando dúvidas dos investidores quanto à monetização da sua tecnologia mais avançada.
Resumo elaborado com apoio de inteligência artificial a partir das fontes indicadas. Pode conter erros ou omissões: confirma sempre na fonte. Não é aconselhamento nem recomendação de investimento.
Artigo da redação da Bull Value a partir de fontes noticiosas internacionais. Não constitui recomendação de investimento.
Fontes originais: CNBC